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坂東 務 and 宮本 昌史 and 倉島 俊,電子ビーム蒸着法による多結晶Si薄膜の作成,"石川工業高等専門学校紀要 = Memoirs of National Institute of Technology, Ishikawa College",02866110,津幡町 (石川県) : 石川工業高等専門学校,1997-03,,29,15-19,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853835154487552,