著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
大石 直也 and 柳沢 英人 and 佐々木 克孝,超高真空系で作製したMo/(100)Si系のシリサイド形成初期過程,"電子情報通信学会論文誌. C-2, エレクトロニクス. 2, 電子素子・応用 = The Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2",09151907,東京 : 電子情報通信学会エレクトロニクス ソサイエティ,1999-08,82,8,432-438,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853835234342272,