著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
佐竹 秀喜 and 三谷 祐一郎,極薄ゲート酸化膜絶縁破壊機構の解明と新高信頼化成膜プロセスの提案,東芝レビュー = Toshiba review,03720462,東京 : 東芝技術企画部,2000-10,55,10,58-61,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520854806113729536,