著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
,INDUSTRY NEWS リソグラフィ技術が直面する問題,Semiconductor international. 日本版,13496425,東京 : リード・ビジネス・インフォメーション,2008-09,5,9,10-12,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520854806133791360,