著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
Ruth Dejule,極浅接合技術の傾向,Semiconductor international. 日本版,13496425,東京 : リード・ビジネス・インフォメーション,2008-06,5,6,31-35,https://cir.nii.ac.jp/crid/1521136281112285696,