著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
安平 光雄,300mm/130nm量産化対応半導体製造プロセスの最新動向,月刊トライボロジー,09146121,東京 : 新樹社,2001-11,15,11,12-14,https://cir.nii.ac.jp/crid/1521417755858160000,