著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
渡辺 猛志,マイクロ波プラズマCVD法によるa-SiGe:H膜の作成--成膜圧力と反応ガス組成の影響,電子写真学会誌,0387916X,東京 : 電子写真学会,1989,28,1,p44-51,https://cir.nii.ac.jp/crid/1521699230842568448,