著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
廣地 志有 and 原 大介 and 西堂 周平,縦型半導体製造装置における超高温誘導加熱技術の開発,日立国際電気技報,13465953,羽村 : 日立国際電気,2012,,13,6-11,https://cir.nii.ac.jp/crid/1521699231027010560,