著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
曽田 栄一 and 近藤 誠一 and 斎藤 修一,代替フロン(CF3I)を用いたLow-k膜エッチング技術,電子材料,03870774,東京 : 工業調査会,2008-03,47,3,8-11,https://cir.nii.ac.jp/crid/1522262180664603264,