著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
西村 克美,半導体プロセスにおけるガス濃度モニタ,Readout : Horiba technical reports,09159916,京都 : 堀場製作所,2004-03,,28,16-19,https://cir.nii.ac.jp/crid/1522543653340383232,