著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
Eelco van Setten and O. Wismans and K. Grim,マスクレベル測定技術の重要性--フラッシュメモリーのCD均一性に大きな影響,Semiconductor international. 日本版,13496425,東京 : リード・ビジネス・インフォメーション,2008-11,5,11,18-23,https://cir.nii.ac.jp/crid/1522825130968148096,