著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
熊木 大介 and 時任 静士,電子・半導体 共役系高分子の高次構造制御と薄膜トランジスタへの応用,未来材料 = Expected materials for the future,13460986,東京 : エヌ・ティー・エス,2012-06,12,6,2-7,https://cir.nii.ac.jp/crid/1523106605915261952,