Author,Title,Journal,ISSN,Publisher,Date,Volume,Number,Page,URL,URL(DOI)
椿 英明 and 山下 克宏 and 高橋 秀知,Effect of resist polymer molecular weight on EUV lithography,Fujifilm research & development = 富士フイルム研究報告,09151478,南足柄 : 富士フイルムR&D統括本部足柄図書室,2010,,55,97-106,https://cir.nii.ac.jp/crid/1523106606029850240,