Author,Title,Journal,ISSN,Publisher,Date,Volume,Number,Page,URL,URL(DOI)
宇佐美 由久 and 渡辺 哲也 and 金澤 吉憲,405 nm laser thermal lithography of 40 nm pattern using super resolution organic resist material,Fujifilm research & development = 富士フイルム研究報告,09151478,南足柄 : 富士フイルムR&D統括本部足柄図書室,2011,,56,56-58,https://cir.nii.ac.jp/crid/1523106606029897600,