Author,Title,Journal,ISSN,Publisher,Date,Volume,Number,Page,URL,URL(DOI)
和久 友夫,半導体用高純度シリコン生成反応に於ける熱力学的検討,東海電極技報,03715884,藤沢 : 東海電極製造技術研究所,1961-02,21,1,25-30,https://cir.nii.ac.jp/crid/1523669555246904704,