著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
大山 俊幸,現像時の高分子反応を利用した微細パターン形成法--反応現像画像形成に基づく感光性エンジニアリングプラスチック,ファインケミカル : 調査・資料・報道・抄録,09136150,東京 : シーエムシー出版,2010-09,39,9,14-23,https://cir.nii.ac.jp/crid/1523669555765027968,