著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI) Dilip Patel and Kye-Weon Kim and Doron Arazi,22nmプロセスの歩留まり目標,Semiconductor international. 日本版,13496425,東京 : リード・ビジネス・インフォメーション,2008-08,5,8,22-28,https://cir.nii.ac.jp/crid/1523669555895091328,