著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
舘 秀樹 and 角岡 正弘,高分子光塩基発生剤を用いる新しい架橋システムの構築,高分子加工,00232564,京都 : 高分子刊行会,2000-01,49,1,2-8,https://cir.nii.ac.jp/crid/1523951029678202496,