著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
赤江 尚徳 and 寺崎 昌人 and 尾崎 貴志,3次元半導体デバイス向け高品質絶縁膜積層技術の開発,日立国際電気技報,13465953,羽村 : 日立国際電気,2014,,15,9-12,https://cir.nii.ac.jp/crid/1523951030836182400,