著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
"三木,靖浩 and 福垣内,学","304 Si含有炭素系膜および基材界面近傍における残留応力挙動(薄膜の非破壊評価,非破壊材料・強度評価の応用,オーガナイスドセッション3)",学術講演会講演論文集,,日本材料学会,2011-05-24,60,,25-26,https://cir.nii.ac.jp/crid/1540854195340291456,