著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
都甲 薫 and 佐道 泰造 and 宮尾 正信,絶縁膜上における非晶質SiGeのインデント誘起固相成長,"電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会",,,2008-09-27,2008,24,31-34,https://cir.nii.ac.jp/crid/1570009751003197952,