Effect of Surface Treatments after HF Etching on Oxidation of Si

  • EGAWA M.
    Faculty of Science and Technology, Science University of Tokyo
  • IKOMA Hideaki
    Faculty of Science and Technology, Science University of Tokyo

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  • CRID
    1570009752456022016
  • NII論文ID
    110003902954
  • NII書誌ID
    AA10457675
  • 本文言語コード
    en
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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