Relationship between Total Arsenic and Electrically Active Arsenic Concentrations in Silicon Produced by the Diffusion Process

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公開日
1979
公開者
American Institute of Physics

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  • CRID
    1570009752704502016
  • NII論文ID
    120002338670
  • ISSN
    00218979
  • Web Site
    http://hdl.handle.net/10097/47788
  • 本文言語コード
    en
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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