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渡嘉敷 健 and 佐藤 聖幸 and 宮本 秀信,RuO2ドライエッチングにおける塩素添加効果 : 導電性酸化膜から成るGbクラスDRAM容量電極の微細加工方法,"電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス",,一般社団法人電子情報通信学会,1995-08-17,95,206,43-50,https://cir.nii.ac.jp/crid/1571417127419442816,