著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
宇佐見 隆志 and 下川 公明 and 吉丸 正樹,PECVD SiOF膜の構造検討,"電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス",,一般社団法人電子情報通信学会,1994-11-25,94,367,43-48,https://cir.nii.ac.jp/crid/1571698602390770048,