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https://cir.nii.ac.jp/crid/1920302384657990656,アリル基を有するシリコン含有ポリマーの合成およびそれらのネガ型フォトレジストへの応用,"斉郷, 和秀",東京工業大学,1989,乙第1944号,工学博士,10.11501/11439123,https://doi.org/10.11501/11439123