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Electrical behavior of implanted aluminum and boron near tail region in 4H-SiC after high-temperature annealing

書誌事項

タイトル
Electrical behavior of implanted aluminum and boron near tail region in 4H-SiC after high-temperature annealing
著者
Y.Negoro, T.Kimoto, H.Matsunami

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詳細情報

  • CRID
    1010000781592274311
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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