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Visualization of electrons and holes localized in the thin gate film of metal SiO_2-Si_3N_4-SiO_2 semiconductor type Flash memory using scanning nonlinear dielectric microscopy after weiting-erasing cycling

書誌事項

タイトル
Visualization of electrons and holes localized in the thin gate film of metal SiO_2-Si_3N_4-SiO_2 semiconductor type Flash memory using scanning nonlinear dielectric microscopy after weiting-erasing cycling
著者
Koichiro Honda

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詳細情報

  • CRID
    1010000781801435154
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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