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Theoretical analysis of the oxygen insertion process in the oxidation reactions of H_2O+H/Si(100)Surface and 2H+H_2O/Si(100): a molecular orbital calculation and an analysis of tunneling reaction

書誌事項

タイトル
Theoretical analysis of the oxygen insertion process in the oxidation reactions of H_2O+H/Si(100)Surface and 2H+H_2O/Si(100): a molecular orbital calculation and an analysis of tunneling reaction
著者
H. Watanabe, S. Nanbu, J. Maki, Z.-H. Wang, T. Urisu, M. Aoyagi, and K. Ooi

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詳細情報

  • CRID
    1010000781882006554
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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