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Sub-70nm resolution patterning of high etch-resistant epoxy novolac resins using gas permeable templates in ultraviolet nanoimprint lithography

書誌事項

タイトル
Sub-70nm resolution patterning of high etch-resistant epoxy novolac resins using gas permeable templates in ultraviolet nanoimprint lithography
著者
Satoshi Takei and Makoto Hanabata

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詳細情報

  • CRID
    1010000781910665096
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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