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Interface engineering by PVD-based in situ fabrication method for advanced metal/high-k gate stacks

書誌事項

タイトル
Interface engineering by PVD-based in situ fabrication method for advanced metal/high-k gate stacks
著者
H., Kitano, et. al.

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詳細情報

  • CRID
    1010000782006892813
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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