【2022年1月締切】CiNii ArticlesへのCiNii Researchへの統合に伴う機関認証の移行確認について

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微傾斜Si (111)基板使用によるSi基板上エピタキシャルグラフェンの高品質化

書誌事項

タイトル
微傾斜Si (111)基板使用によるSi基板上エピタキシャルグラフェンの高品質化
著者
原本直樹, 猪俣州哉, 三本菅正太, 吹留博一, 末光眞希

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詳細情報

  • CRID
    1010000782139688580
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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