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Investigation of Chemical Mechanical Polishing of GaAs Wafer by the Effect of a Photocatalyst

書誌事項

タイトル
Investigation of Chemical Mechanical Polishing of GaAs Wafer by the Effect of a Photocatalyst
著者
S.H.Hong, H.Ishii, M.Touge, J.Watanabe

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詳細情報

  • CRID
    1010282256753406219
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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