【10/4更新】2022年4月1日からのCiNii ArticlesのCiNii Researchへの統合について

CHARACTERIZATIUN OF TUNNELING CURRENT THROUGH ULTRATHIN SILICON DIOXIDE FILMS BY DIFFERENT-METAL GATES MRTHOD

書誌事項

タイトル
CHARACTERIZATIUN OF TUNNELING CURRENT THROUGH ULTRATHIN SILICON DIOXIDE FILMS BY DIFFERENT-METAL GATES MRTHOD
著者
Naoto Yoshii, Tatsuya Okazaki, Takaaki Hirokane, Shinichi Urabe, Kazuo Nishimura, Satoru Morita, Mizuho Morita

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詳細情報

  • CRID
    1010282256756411404
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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