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インクジェット法によるフルオロアルキルシラン単分子膜パターン基板への位置選択的な高分子膜の形成

書誌事項

タイトル
インクジェット法によるフルオロアルキルシラン単分子膜パターン基板への位置選択的な高分子膜の形成
著者
森田正道

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詳細情報

  • CRID
    1010282256852086150
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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