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Stress engineering of the alkoxide derived ferroelectric thin film on Si wafer

書誌事項

タイトル
Stress engineering of the alkoxide derived ferroelectric thin film on Si wafer
著者
Tomoya Ohno, Barbara Malic, Hiroaki Fukazawa, Naoki Wakiya, Hisao Suzuki, Takeshi Matsuda, Marija Kosec

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詳細情報

  • CRID
    1010282257442986243
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN
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