50 nm gate electrode patterning using a neutral-beam etching system
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- 寒川 誠二
- 東北大学
書誌事項
- タイトル
- 50 nm gate electrode patterning using a neutral-beam etching system
- 著者
- 寒川誠二
収録刊行物
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- Journal of Vacuum Science and Technology A22(4)
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Journal of Vacuum Science and Technology A22(4) 1093-1100, 2004