Formation of atomically flat beta-FeSi2/Si(100) interface using ion irradiated substrate.

書誌事項

タイトル
Formation of atomically flat beta-FeSi2/Si(100) interface using ion irradiated substrate.
著者
M. Sasase, H. yamamoto, H. Kurata

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詳細情報

  • CRID
    1010282257140302336
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN

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