良溶媒界面における高分子科学～ハイドロゲル最外領域における凝集状態とダイナミクス
研究課題情報
- 体系的番号
- JP20H02790
- 助成事業
- 科学研究費助成事業
- 資金配分機関情報
- 日本学術振興会(JSPS)
- 研究課題/領域番号
- 20H02790
- 研究種目
- 基盤研究(B)
- 配分区分
-
- 補助金
- 審査区分/研究分野
-
- 小区分35010:高分子化学関連
- 研究機関
-
- 九州大学
- 研究期間 (年度)
- 2020-04-01 〜 2023-03-31
- 研究課題ステータス
- 完了
- 配分額*注記
- 17,810,000 円 (直接経費: 13,700,000 円 間接経費: 4,110,000 円)
研究概要
本研究では、水中における高分子ハイドロゲルの最外層を「良溶媒と接触した高分子界面」と捉え、その凝集状態およびダイナミクスを明らかにすることを目的とする。特に、界面近傍における架橋密度の深さ方向分布、界面最外領域に存在するダングリング鎖の静的・動的挙動を独自の方法論で解析し、理解を深化させる。本研究は、ゲル最外領域におけるセグメントレベルのキャラクタリゼーションとしても特徴がある。ゲル最外領域に存在するダングリング鎖は擬ブラシ構造を形成するという仮説を立てて実験を遂行する。仮説が検証できれば、高分子ゲル分野と高分子ブラシ分野を繋ぐことが可能となり、ソフト界面研究に新たな潮流を生むと期待する。