高分子ナノ界面力学設計による長周期ゆらぎ増幅・治療効果増強幹細胞の製造基材開発

研究課題情報

体系的番号
JP24H00802
助成事業
科学研究費助成事業
資金配分機関情報
日本学術振興会(JSPS)
研究課題/領域番号
24H00802
研究種目
基盤研究(A)
配分区分
  • 補助金
審査区分/研究分野
  • 中区分90:人間医工学およびその関連分野
研究機関
  • 九州大学
研究期間 (年度)
2024-04-01 〜 2028-03-31
研究課題ステータス
交付
配分額*注記
48,230,000 円 (直接経費: 37,100,000 円 間接経費: 11,130,000 円)

研究概要

本研究課題は、応募者の独自発明である「非一様力学場・非定住培養による細胞機能活性化・治療効果増強技術」(2023年日欧中3カ国で特許査定*。米豪印で審査中)の実用製品化展開を目指す上で、より汎用性・普及性の高いドライ高分子薄膜修飾基板への同技術原理の実装を目的とし、次の3点の課題に取り組む。1)細胞の伸縮接着モードを誘導する高分子薄膜のナノ力学設計、2)細胞の長周期ゆらぎ増幅とメカノ活性化を精密定量するウェーブレット解析評価指標開発、3)開発基材を用いた治療効果増強幹細胞製造のための非臨床POCの取得。

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