Integration Study of General Principles of Thin Film Formation by Plasma Processes.
About this project
- Japan Grant Number
- JP24H00205
- Funding Program
- Grants-in-Aid for Scientific Research
- Funding organization
- Japan Society for the Promotion of Science
- Project/Area Number
- 24H00205
- Research Category
- Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
- Allocation Type
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- Single-year Grants
- Review Section / Research Field
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- Medium-sized Section 14:Plasma science and related fields
- Research Institution
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- Kyushu University
- Project Period (FY)
- 2024-04-01 〜 2029-03-31
- Project Status
- Granted
- Budget Amount*help
- 47,580,000 Yen (Direct Cost: 36,600,000 Yen Indirect Cost: 10,980,000 Yen)
Research Abstract
長年、成膜プロセスは、所望の膜質を実現する外部パラメータを実験的に探索する手法にとらわれているのが現状である。それは、成膜プロセスから膜質を理論的に同定する方法論が確立されていないためである。そこで、本研究は、プラズマ内部パラメータと膜質の定量的関係の一般則を導出することを目的としている。そこで、本研究では、① 電子密度やイオンエネルギーなどのプラズマ内部パラメータを発光情報から導出する定量的法則を見出すこと、②膜質のin-situ計測と大量データ収集システムを構築し、③ 外部パラメータ×プラズマ内部パラメータ×膜質の総合的な定量的な関係則を見出し、プラズマプロセス膜形成の一般則を導出する。
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1040299749902189824
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- KAKEN