高パワー・高密度な高周波プラズマ源において、イオン化の種となる中性粒子が枯渇しプラズマ密度が低下する「中性粒子枯渇」が問題となっている。中性粒子枯渇は高周波プラズマ源の密度限界を決める要因の一つとして考えられているだけでなく、プラズマの安定性に悪影響を及ぼすため、応用面においてはこの問題を克服することが課題となっている。本研究では3 流体（中性ガス、電子、イオン）数値計算によってプラズマ圧と中性ガス圧の時空間発展を解明し、中性粒子枯渇を克服するための効果的な中性粒子供給システムを開発する。
