ダイオード整流多電極アーク源による機能性ポーラス材料の高速生成プロセスの基盤確立

研究課題情報

体系的番号
JP25K07271 (JGN)
助成事業
科学研究費助成事業
資金配分機関情報
日本学術振興会(JSPS)

科研費情報

研究課題/領域番号
25K07271
研究種目
基盤研究(C)
配分区分
  • 基金
審査区分/研究分野
  • 小区分14030:プラズマ応用科学関連
研究機関
  • 九州大学
研究期間 (年度)
2025-04-01 〜 2028-03-31
研究課題ステータス
交付
配分額*注記
4,680,000 円 (直接経費: 3,600,000 円 間接経費: 1,080,000 円)

研究概要

最終的な目的は,熱プラズマと固相表面間の非平衡反応場における基礎現象の学理構築である.3要素に分けて目的を設定し,熱プラズマを用いた持続可能な環境調和型社会への貢献を目指す. ダイオード整流した多電極交流放電を用いることで,スケールアップが容易で産業応用への展開が可能な,革新的な一次元熱プラズマ源の創成を第一の目的とする.また,革新的熱プラズマ源を真に理解し,使いこなすために,時間的・空間的に変動するプラズマ状態量を可視化する計測システムの開発を第二の目的とする.第三に,上記で創成した熱プラズマ源を用いた珪藻土の還元処理プロセスの確立,およびそれによるポーラスSiの大量製造手法の確立を目指す.

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