ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx 構造を有する酸化物 TFTの大気圧形成」

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  • ミスト オ リヨウ シタ ハクマク サクセイ ギジュツ 「 ミスト CVDホウ 」 ノ カイハツ ト 「 a-IGZO/AlOx コウゾウ オ ユウスル サンカブツ TFT ノ タイキアツ ケイセイ 」
  • Development of the Novel Thin Film Fabrication Technology using Mist,“Mist CVD”and Oxide TFT with a-IGZO/AlOx Stack Grown under Atmosphere by the Mist CVD

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