規則合金膜へのイオン照射による磁気特性制御とビットパターン構造の作製

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  • キソク ゴウキンマク エ ノ イオン ショウシャ ニ ヨル ジキ トクセイ セイギョ ト ビットパターン コウゾウ ノ サクセイ
  • Control of magnetism of ordered alloys by ion irradiation and fabrication of ion beam patterned structures

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抄録

我々はこれまでに,Ll_2-CrPt_3規則合金膜に30 keVのKr^+イオン照射を行うことでその磁気特性が容易に制御できること,およびCrPt3を用いて高密度イオン照射型ビットパターン膜が作製できることを示してきた.本報告では,これらをまとめるとともに,Ll_2-CrPt_3の最大の課題である生成温度の高さ(850℃)を解決するために,比較的低温で作製できるMn系規則合金について検討した結果を述べる.これらの合金膜にイオン照射したところ,CrPt_3と同様,低ドーズ量での非磁性化を確認し, Mn系材料においても高密度なパターンが作製できるものと考えられる.

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