中低温動作マイクロSOFCのためのGd添加CeO2の堆積と微細加工

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タイトル別名
  • チュウテイオン ドウサ マイクロ SOFC ノ タメ ノ Gd テンカ CeO2 ノ タイセキ ト ビサイ カコウ
  • Deposition and Microfabrication of Gd-doped CeO2 for Micro SOFC Operating at Low Temperature

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抄録

携帯機器に搭載できるSOFCの構造として極薄のGd 添加CeO2 (GDC) 膜を自己支持にし、そこに局所加熱のためにマイクロヒータを配した構造を提案し た。これを実現するためにGDC膜の残留応力を成膜中の酸素分圧によって制御する方法を試み、-160 MPaの低応力膜を持た。GDC膜のエッチング耐性を調査し、その結果に基づいて作製プロセスを設計し、提案したマイクロSOFCの基本構造を作製した。作製したGDC自己支持膜のイオン導電率は報告されているバルクGDCの値より低いが400℃以下の低温ではバルクYSZよりも高い値を示しており、GDC自己支持膜を用いてマイクロSOFCの低温化が期待できる。

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