部分一括描画装置の処理能力向上のための描画面積最適化

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タイトル別名
  • ブブン イッカツ ビョウガ ソウチ ノ ショリ ノウリョク コウジョウ ノ タメノ ビョウガ メンセキ サイテキカ
  • Character Size Optimization for Higher Throughput of Character Projection Lithography
  • 計算機システム化技術

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抄録

本稿では 部分一括描画法の描画能力を高めることを目的とし 描画面積を最適にする手法について議論する.部分一括描画法は電子線直描やフォトマスクの製造に応用可能な電子線描画技術である.描画装置の減価償却の意味で 部分一括描画法の描画時間は電子デバイスやフォトマスクの価格を決定するものであり 削減されることが望ましい.本稿では CPマスク上に配列状に搭載されるキャラクタの大きさを最適にすることによって 描画時間を削減する手法を提案する.提案手法により 既存の手法と比べて最大71.1%の描画時間を削減した.

We present a character size optimization technique to enhance throughput of character projection lithography, which can be applied to maskless lithography as well as photomask manufacture. The number of electron beam shots to draw the patterns of circuits is a dominant factor in the manufacture time and the cost for devices. Our technique is capable of drastically reducing them by optimizing the size of characters, which are the patterns to project and are placed on CP masks. Experimental results show that our technique has reduced 71.1% of EB shots in the best case, compared with the ad hoc character sizing.

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