書誌事項
- タイトル別名
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- Discharge Characteristics in Facing Targets Type of Sputtering Method and Properties of Deposited Thin Films
- タイコウ ターゲットシキ スパッタリングホウ ノ ホウデン トクセイ ト タイ
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説明
Article
信州大学工学部紀要 76: 13-20 (1995)
収録刊行物
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- 信州大学工学部紀要
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信州大学工学部紀要 76 13-20, 1995-09-29
信州大学工学部
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1050564288876402944
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- NII論文ID
- 110000237331
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- NII書誌ID
- AN00121228
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- ISSN
- 00373818
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- HANDLE
- 10091/10968
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- NDL書誌ID
- 3626348
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- 本文言語コード
- ja
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- 資料種別
- departmental bulletin paper
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- データソース種別
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- IRDB
- NDL
- CiNii Articles