適応指導教室の支援学生及び指導員における現実自我と支援活動時のイメージ自我の変容

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  • テキオウ シドウ キョウシツ ノ シエン ガクセイ オヨビ シドウイン ニ オケル ゲンジツ ジガ ト シエン カツドウジ ノ イメージ ジガ ノ ヘンヨウ

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抄録

適応指導教室に通う不登校児童生徒に支援学生や指導員がどのような自我状態でかかわっているのかを明らかにするために，4月，7月，12月の3時点で対象者の日常的な自我状態（現実自我）と，適応指導教室で不登校児童生徒とかかわる際の自我状態（イメージ自我）の二つをTEGで調べ，その特徴と変容を検討した。その結果，①現実自我・イメージ自我とも常に，NPが最大の粗点平均値を示した。②現実自我は変容に乏しかったが，イメージ自我では有意にCPが低下し，NPとFCが上昇した。③エゴグラム・パターンでは，イメージ自我においてM型の者が最も多く，次にN型が多かった。④イメージ自我の「ピーク・エゴグラム」がNPの者が最も多く，一方，「ボトム・エゴグラム」はACの者が最も多く，NPまたはFCが「ボトム・エゴグラム」である者は，3時点全てで皆無だった。以上から，適応指導教室において不登校児童生徒とかかわる際にはCPを抑える一方で，特にNP，次いでFCを強調する構えが形成されていることが示された。

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