光パルス処理に対するAlicyclobacillus acidoterrestris芽胞の株間耐性比較

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タイトル別名
  • Comparison of pulse light resistance in the spores of different Alicyclobacillus acidoterrestris strains
  • ヒカリ パルス ショリ ニ タイスル Alicyclobacillus acidoterrestris ガホウ ノ カブマ タイセイ ヒカク

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抄録

酸性飲料変敗菌であるAlicyclobacillus acidoterrestris NBRC 106287，NBRC 106295およびNBRC 108913の芽胞のクエン酸緩衝液中での光パルス処理(光量73±3 mJ/cm2/pulse)耐性を比較した。芽胞調製時に生じる芽胞-栄養細胞凝集塊形成の株間での差による光パルス処理後の生残芽胞数の違いが認められたものの，超音波分散処理により凝集塊を分散することでその差はなくなり，全ての菌株は3回照射により検出限界以下まで減少した。以上の結果から，A. acidoterrestris芽胞の光パルス耐性に菌株間での差はないが，芽胞-栄養細胞凝集塊形成が光パルス処理における制御対象として重要な因子であることが示唆された。

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